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氮化硅TEM支持膜

氮化硅薄膜是超平坦、應力優(yōu)化且潔凈的載樣平臺，適用于TEM應用。氮化硅的特性使其能夠成為堅固、耐化學腐蝕、無碳、低背景信號的TEM支持膜。它們是納米顆粒成像、定量碳分析、支撐膜上化學實驗、實時化學反應和晶體生長研究、薄膜研究、膜上細胞生長和多種顯微鏡研究技術等應用的理想選擇。

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氮化硅TEM支持膜

Silicon nitride support films and membranes for EM

氮化硅薄膜是超平坦、應力優(yōu)化且潔凈的載樣平臺，適用于TEM應用。氮化硅的特性使其能夠成為堅固、耐化學腐蝕、無碳、低背景信號的TEM支持膜。它們是納米顆粒成像、定量碳分析、支撐膜上化學實驗、實時化學反應和晶體生長研究、薄膜研究、膜上細胞生長和多種顯微鏡研究技術等應用的理想選擇。氮化硅膜采取特別的計算方法和化學配方，針對每個窗口尺寸和膜厚度進行了應力優(yōu)化。這些支持膜采用先進的MEMS技術制造，生產出無碎屑、清潔且高度平整的膜。

硅框架與標準3mm TEM載網樣品座完全兼容。SiN膜在一個2.65 x 2.65mm的模具上生產，帶有背面蝕刻的拐角，以適應TEM載網樣品座中的?3mm開口。標準硅框架厚度為200μm，提供了一個易于操作且堅固的支撐框架。200μm厚度與幾乎所有的標準TEM載網樣品座兼容。對于特殊的TEM載網樣品座，可以選用100μm厚度較薄的硅支撐框架。

氮化硅支撐膜的優(yōu)點：

1）無定形、低背景、低散射

2）高耐酸、堿和溶劑

3）耐高溫，高達1000°C

4）無碳，易清潔

5）無支撐遮擋，可視區(qū)域大

6）支持多種顯微鏡技術，如TEM、SEM、FIB、EDX、Auger、XPS和AFM/SPM

氮化硅支撐膜的特點：

1）可選厚度為10、20、30、50、100和200nm堅固氮化硅膜

2）與?3.05mm TEM載網樣品座完全兼容

3）清潔、超平坦的氮化硅膜

4）優(yōu)化膜應力以實現(xiàn)高強度和高平面度

5）可選200μm和100μm兩種厚度的標準硅支撐框架

6）可選包裝：采用標準TEM載網盒，10片/盒和25片/盒兩種規(guī)格

氮化硅膜是通過在硅片上生長具有所需厚度的氮化硅薄膜制成的。長成之后，將窗口蝕刻到硅片背面，以完全去除硅直至SiN層。然后將硅片切割成2.65x2.65毫米的正方形，并對四個拐角進行背面蝕刻，以使這些獨特的產品與標準的3.05毫米TEM載網尺寸兼容。

Specifications of the EM-Tec silicon nitride support films for EM

選用原則及注意事項：
1）對于高分辨率成像，應該使用更薄的膜，比如10/20/30nm。

2）對于膜或膜上的多循環(huán)處理，應使用更厚的膜：100或200nm，因為它們更堅固。

3）較小窗口比較大窗口提供更堅固的窗口。

4）窗口越小，膜破損的幾率越低。

5）氮化硅膜不含任何碳；在使用前應進行清潔以去除表面吸附的碳氫化合物。（使用輝光放電或溫和的等離子清洗）

6）不要用超聲波清潔，因為SiN是脆弱的。

具有鋼結構工程專業(yè)承包二級資質、建筑工程施工總承包貳級資質；公司主營產品包括重鋼、輕鋼、網架及檁條、彩鋼板等鋼結構產品；近年來，公司承接了國內外大型結構件、橋梁、車庫、標準化廠房等具有較大影響力的一系列項目；產品遠銷白俄羅斯、贊比亞、印尼等國家，得到了一致好評。

關鍵詞： 氮化硅TEM支持膜

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